和100L反應(yīng)釜配套使用密閉制冷加熱循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

l能提供熱源或冷源的循環(huán)裝置。工作范圍廣，可用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源。

l溫度控制范圍寬：-80℃~200℃。

l預(yù)冷系統(tǒng)、制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)可聯(lián)合使用。

l快速加熱或冷卻。

l降溫速率大，可強(qiáng)制快速降溫。

l全封閉循環(huán)系統(tǒng)，高溫時(shí)導(dǎo)熱流體不易揮發(fā)和氧化；低溫下不易受環(huán)境條件影響，可延長(zhǎng)導(dǎo)熱流體的使用壽命。

l制冷換熱器采用全釬焊板式換熱器，占用空間小，換熱效率高。

l液位顯示功能，實(shí)時(shí)監(jiān)視液位，避免缺少載熱流體。

l超溫保護(hù)、漏電保護(hù)、過(guò)電流保護(hù)等多種保護(hù)功能，充分保證使用者及設(shè)備安全。

l根據(jù)用戶(hù)需求，可提供風(fēng)冷、水冷兩種預(yù)冷方式機(jī)型

和100L反應(yīng)釜配套使用密閉制冷加熱循環(huán)裝置，典型應(yīng)用：

●化工、制藥和生物領(lǐng)域中雙層及三層反應(yīng)釜的溫度控制。

●材料測(cè)試中的溫度控制。

●蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。

●工藝過(guò)程中的溫度變化模擬控制。

●恒溫控制系統(tǒng)。

●半導(dǎo)體設(shè)備的溫度控制。

●熱測(cè)試平臺(tái)的溫度控制。